澎湃报道，应美国政府要求，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）取消了两款深紫外（DUV）光刻机出口中国。ASML 目前最先进的光刻机是极紫外 (EUV) 光刻机，台积电和三星等公司使用 EUV 制造 7 纳米或更先进芯片。但中芯国际去年量产了华为的 7 纳米芯片麒麟 9000S，使用的就是 DUV 光刻机。美国显然在进一步限制中国获取 DUV 光刻机。中国外交部发言人汪文斌在新闻发布会上表示，中方一贯反对美国泛化国家安全概念，以各种借口胁迫其他国家搞对华科技封锁。
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